Estructura cristalina y difracción
Fórmulas para describir la disposición atómica en cristales y su interacción con radiación.
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| d | distancia interplanar Para grafito, d ≈ 3.35×10⁻¹⁰ m | m |
| \theta | ángulo de Bragg Entre haz incidente y planos cristalinos | rad |
| n | orden de difracción Entero positivo (1, 2, 3...) | |
| \lambda | longitud de onda de radiación Rayos X: λ ≈ 1.54×10⁻¹⁰ m (Cu Kα) | m |
Dimensions :
Exemple : Cuarzo (d=3.34×10⁻¹⁰ m), λ=1.54×10⁻¹⁰ m, n=1: θ = arcsin(1.54×10⁻¹⁰/(2×3.34×10⁻¹⁰)) ≈ 13.5°
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| F_{\mathbf{G}} | factor de estructura Amplitud de onda dispersada | |
| \mathbf{G} | vector de red recíproca G = hb₁ + kb₂ + lb₃ | m⁻¹ |
| f_j | factor de scattering atómico Depende del átomo j | |
| \mathbf{r}_j | posición del átomo j En la celda unitaria | m |
Dimensions :
Exemple : Para estructura FCC (ej. aluminio), = 4f para planos (111) si G· = 0
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| d_{hkl} | distancia interplanar Para planos cristalográficos (hkl) | m |
| a | parámetro de red Longitud de la arista de la celda unitaria | m |
| h,k,l | índices de Miller Enteros sin factor común |
Dimensions :
Exemple : Silicio (a=5.43×10⁻¹⁰ m), planos (111): d = 5.43×10⁻¹⁰/√3 ≈ 3.14×10⁻¹⁰ m
Propiedades electrónicas de los sólidos
Fórmulas que describen el comportamiento de los electrones en materiales sólidos.
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| E_F | energía de Fermi Energía máxima a T=0 K | J |
| \hbar | constante de Planck reducida ħ = 1.055×10⁻³⁴ J·s | J·s |
| m_e | masa del electrón = 9.11×10⁻³¹ kg | kg |
| n | densidad de electrones Cobre: n ≈ 8.49×10²⁸ m⁻³ | m⁻³ |
Dimensions : [M][L]^{2}[T]⁻^{2} ParseError: Double superscript at position 15: [M][L]^{2}[T]⁻^̲{2}
Exemple : Cobre (n=8.49×10²⁸ m⁻³): ≈ 1.13×10⁻¹⁸ J (7.03 eV)
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| g(E) | densidad de estados Estados por unidad de energía y volumen | J⁻¹m⁻³ |
| E | energía Energía de los electrones | J |
Dimensions : [L]⁻^{3}[E]⁻^{1} ParseError: Double superscript at position 5: [L]⁻^̲{3}[E]⁻^{1}
Exemple : A E=1 eV, g(E) ≈ 1.06×10⁴⁷ J⁻¹m⁻³ para electrones en cobre
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| \sigma | conductividad eléctrica Cobre: σ ≈ 5.96×10⁷ S/m | S/m |
| n | densidad de electrones libres Depende del material | m⁻³ |
| e | carga elemental e = 1.602×10⁻¹⁹ C | C |
| \tau | tiempo de relajación Cobre: τ ≈ 2.5×10⁻¹⁴ s | s |
| m_e | masa del electrón = 9.11×10⁻³¹ kg | kg |
Dimensions : [M]⁻^{1}[L]⁻^{3}[T]^{3}[I]^{2} ParseError: Double superscript at position 5: [M]⁻^̲{1}[L]⁻^{3}[T]^…
Exemple : Aluminio (n=1.81×10²⁹ m⁻³, τ=8×10⁻¹⁴ s): σ ≈ 3.78×10⁷ S/m
Semiconductores y dispositivos
Fórmulas esenciales para entender y diseñar dispositivos electrónicos basados en semiconductores.
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| n | concentración de electrones En equilibrio: n = para intrínseco | m⁻³ |
| G_n | tasa de generación de electrones Por iluminación o radiación | m⁻³s⁻¹ |
| R_n | tasa de recombinación de electrones Depende de n, p y temperatura | m⁻³s⁻¹ |
| \mathbf{J}_n | densidad de corriente de electrones = e n μ_n E + e ∇n | A/m² |
| e | carga elemental e = 1.602×10⁻¹⁹ C | C |
Dimensions : [L]⁻^{3}[T]⁻^{1} ParseError: Double superscript at position 5: [L]⁻^̲{3}[T]⁻^{1}
Exemple : Fotodetector de silicio: G=10²⁰ m⁻³s⁻¹, R=5×10¹⁹ m⁻³s⁻¹ → ∂n/∂t = 5×10¹⁹ m⁻³s⁻¹
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| n | concentración de electrones | m⁻³ |
| p | concentración de huecos | m⁻³ |
| n_i | concentración intrínseca Silicio a 300 K: ≈ 1.5×10¹⁶ m⁻³ | m⁻³ |
Dimensions :
Exemple : Silicio dopado: n=10²⁴ m⁻³ → p = (1.5×10¹⁶)²/10²⁴ = 2.25×10⁸ m⁻³
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| J | densidad de corriente Corriente directa vs inversa | A/m² |
| A^* | constante de Richardson A* ≈ 1.2×10⁶ A/m²K² para silicio | A/m²K² |
| T | temperatura absoluta En Kelvin | K |
| \phi_B | altura de barrera Energía de la barrera Schottky | J |
| k_B | constante de Boltzmann = 1.38×10⁻²³ J/K | J/K |
| V | voltaje aplicado Positivo para polarización directa | V |
Dimensions : [I][L]⁻^{2} ParseError: Double superscript at position 8: [I][L]⁻^̲{2}
Exemple : Silicio a 300 K, φ_B=0.7 eV, V=0.5 V: J ≈ 1.2×10⁶ × 9×10⁴ × e^(-0.7/0.0259) × (e^(0.5/0.0259)-1) ≈ 10⁴ A/m²
Propiedades térmicas y vibraciones
Fórmulas que describen el comportamiento térmico y vibracional de los sólidos.
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| \mathbf{J}_q | densidad de flujo de calor Flujo de energía por unidad de área | W/m² |
| k | conductividad térmica Cobre: k≈400 W/m·K; aire: k≈0.026 W/m·K | W/m·K |
| \nabla T | gradiente de temperatura Variación espacial de T | K/m |
Dimensions : [M][T]⁻^{3} ParseError: Double superscript at position 8: [M][T]⁻^̲{3}
Exemple : Pared de concreto (k=1.7 W/m·K, espesor=0.2 m, ΔT=20 K): = -1.7 × (20/0.2) = -170 W/m²
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| C_V | capacidad calorífica molar Para sólidos a T ambiente | J/mol·K |
| R | constante de los gases R = 8.314 J/mol·K | J/mol·K |
Dimensions : [M][L]^{2}[T]⁻^{2}[Θ]⁻^{1}[mol]⁻^{1} ParseError: Double superscript at position 15: [M][L]^{2}[T]⁻^̲{2}[Θ]⁻^{1}[mol…
Exemple : Aluminio (masa molar=27 g/mol): = 3×8.314 ≈ 24.9 J/mol·K
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| \omega_D | frecuencia de Debye Frecuencia máxima de fonones | rad/s |
| v_s | velocidad del sonido En el sólido | m/s |
| n | densidad de átomos Depende del material | m⁻³ |
Dimensions : [T]⁻^{1} ParseError: Double superscript at position 5: [T]⁻^̲{1}
Exemple : Cobre (≈3570 m/s, n=8.49×10²⁸ m⁻³): ω_D ≈ 3.03×10¹³ rad/s
Propiedades magnéticas y ópticas
Fórmulas para describir el comportamiento magnético y la interacción con luz en sólidos.
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| \chi | susceptibilidad magnética Para paramagnéticos: χ > 0 | |
| C | constante de Curie Gadolinio: C≈15 K | K |
| T | temperatura absoluta En Kelvin | K |
Dimensions :
Exemple : Material con C=10 K a T=300 K: χ = 10/300 ≈ 0.033
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| I | intensidad transmitida Después de atravesar el material | W/m² |
| I_0 | intensidad incidente Intensidad inicial | W/m² |
| \alpha | coeficiente de absorción Silicio a 800 nm: α≈10⁵ m⁻¹ | m⁻¹ |
| x | espesor del material Distancia recorrida por la luz | m |
Dimensions :
Exemple : Silicio (α=10⁵ m⁻¹, x=1 mm): I = 1000 × e^(-10⁵×0.001) ≈ 4.54×10⁻⁴⁴ W/m² (opaco)
| Symbole | Signification | Unité |
|---|---|---|
| \epsilon_r(\omega) | constante dieléctrica real Parte real de la permitividad | |
| \epsilon_2(\omega) | constante dieléctrica imaginaria Parte imaginaria (absorción) | |
| \omega | frecuencia angular Frecuencia de la luz | rad/s |
| \mathcal{P} | valor principal de Cauchy Integral en sentido de valor principal |
Dimensions :
Exemple : Para un material con ε₂(ω) conocido, calcular ε_r(ω) a ω=10¹⁵ rad/s integrando numéricamente